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초음파 팩트/클리너와 액체 처리용 초음파 탐사 기기의 차이점은 무엇입니까?

2025-03-22

에 대한 최신 회사 뉴스 초음파 팩트/클리너와 액체 처리용 초음파 탐사 기기의 차이점은 무엇입니까?

초음파 팩트/클리너와 액체 처리용 초음파 탐사 기기의 차이점은 무엇입니까?

 

초음파 청소 원리: 초음파가 액체에서 전파될 때 생성되는 캐비테이션 효과, 방사선 압력 및 기계적 진동과 같은 물리적 효과에 주로 기초합니다.캐비테이션 거품이 생성됩니다., 액체에서 성장하고 붕괴하여 강한 충격 힘을 생성하여 물체의 표면에서 더럽고 입자 불순물 및 기타 불순물을 제거 할 수 있습니다. 예를 들어 안경 렌즈를 청소 할 때,초음파 캐비테이션은 렌즈 표면에 붙어있는 먼지와 지방과 같은 오염 물질을 제거 할 수 있습니다.

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초음파 sonochemical 원칙: cavitation 효과 외에도, 그것은 극단적인 물리적 및 화학 환경의 사용을 강조 (높은 온도, 높은 압력,초고속 미크로 제트, 등) 는 화학 반응을 촉발시키기 위해 캐비테이션 과정에서 생성됩니다. 용액 처리에서,이 조건은 용액의 분자의 활동과 반응 속도를 크게 바꿀 수 있습니다.예를 들어, 유기 합성 반응에서 초음파는 반응 분자의 화학 결합이 깨지고 재조합되도록 할 수 있습니다.따라서 정상적인 조건에서 수행하기 어려운 화학 반응을 달성합니다..

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추출 효과가 좋지 않음
목표 매개 변수 조정 부족: 초음파 청소 기계의 주요 설계 목적은 물체 표면의 더러운 청소입니다. 용액 추출 작업에,그 매개 변수 조절은 매우 제한적입니다.예를 들어 중국 의약품 재료에서 효과적인 성분을 추출하는 것을 들자면, 전문 추출 장비는 온도, 압력, 용매 흐름 속도 등을 정확하게 제어 할 수 있습니다..그러나 초음파 청소 기계는 단지 힘과 시간을 조정 할 수 있습니다.프로 장비와 달리, 그들은 다른 의약품 물질의 세포벽 구조, 활성 성분의 화학적 특성 등에 따라 적절한 추출 매개 변수를 설정 할 수 없습니다.추출효율이 낮아지는.
낮은 추출 속도와 긴 시간: 소크슬렛 추출 장치와 같은 전문 추출 장치와 비교하면 초음파 청소 기계의 추출 속도는 분명히 충분하지 않습니다.소크슬레트 추출기는 용매의 반복적인 반류를 통해 추출물을 지속적으로 추출 할 수 있습니다., 크게 추출 효율을 향상. 초음파 청소 기계는 추출 하 여 캐비테이션을 사용 합니다.전문 장비처럼 용매와 추출물의 효율적인 재활용을 달성 할 수 없습니다.추출 시간이 크게 길어지고 동시에 추출 속도는 이상적인 수준에 도달하기가 어렵습니다.대량 생산 또는 추출량에 대한 높은 요구 사항이있는 시나리오에 적합하지 않습니다..


제한된 분산 용량
가공량은 수요를 충족시키는 것이 어렵습니다: 산업 생산에 필요한 용액 분산량은 종종 크습니다.초음파 청소 기계의 작업 탱크 부피는 일반적으로 작습니다.코팅의 생산에서 많은 양의 색소가 안정적인 코팅 용액을 형성하기 위해 용매에 균등하게 분산되어야합니다.초음파 청소 기계가 한 번에 처리 할 수있는 용액의 양은 생산 규모를 충족하는 것은 멀리 떨어져 있습니다빈번한 작업은 비효율적일 뿐만 아니라 생산 비용과 시간 비용을 증가시킵니다.
특수 용액의 치료 효과는 좋지 않습니다: 초음파 청소 기계는 고 농도 및 고 점도 용액을 처리 할 수 없습니다. 잉크 생산에서,잉크 용액은 높은 점성 특성을 가지고 있습니다.초음파가 그러한 용액에서 전파되면 에너지는 빠르게 붕괴되고, 동굴화 거품은 효과적으로 생성되고 붕괴하기가 어렵습니다.캐비테이션 효과를 완전히 발휘할 수 없는 결과, 효과적으로 입자 집적물을 분해하고 균일한 분산을 달성하여 궁극적으로 제품 품질에 영향을 미칩니다.


다양한 효과를 만들어 냈습니다.
초음파 청소 효과: 물리적 청소 효과에 중점을 둔다. 그것의 주요 기능은 물체의 표면을 청소하는 것입니다.물체의 표면에서 오염 물질을 분리하고 용액에 분산합니다., 그러나 용액 자체의 화학적 특성은 약간 변경됩니다. 예를 들어,금속 부품의 표면에 기름 얼룩을 청소 하 고 청소 용액에 부품의 표면에서 기름 얼룩을 벗겨, 그리고 청소 용액의 화학 성분은 기본적으로 변하지 않습니다.


초음파 소노 화학 효과: 물리적 분산이 달성 될 수있을뿐만 아니라 일련의 화학 변화가 유발 될 수 있습니다.고온 (약 5000K) 및 고압 (약 100MPa) 환경은 캐비테이션 거품 붕괴 순간에 생성 용액의 분자의 균열을 촉진 할 수 있습니다, 자유 라디칼 생성 및 다른 반응초음파 소노케미스트리는 산화하고 분해하기 어려운 유기 오염 물질을 무해한 작은 분자로 산화하고 분해하는 강한 산화 자유 라디칼을 생성 할 수 있습니다., 따라서 용액의 화학적 구성에 깊은 변화를 달성합니다.
다양한 응용 시나리오
초음파 청소 응용 시나리오:물체의 표면에 있는 더럽고 불순물을 제거하고 물체의 표면의 청결을 회복해야 하는 상황에 적용됩니다.그것은 일반적으로 전자 부품 청소 및 의료 기기 살균 전에 사전 처리 분야에서 사용됩니다.그것은 주로 물체의 표면 청소에 초점을 맞추고 용액 처리의 높은 깊이를 필요로하지 않습니다..


초음파 소노케미스트리 응용 시나리오: 용액을 화학적으로 수정하고 화학 반응을 촉진해야하는 시나리오에서 널리 사용됩니다. 물질 합성에서,나노소재를 준비하는 데 사용할 수 있습니다., 그리고 물질의 입자 크기와 구조는 초음파로 유발되는 화학 반응으로 정확하게 제어 할 수 있습니다.오염 된 물체 처리 및 용액을 깊이 정제하는 데 사용됩니다..

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